上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                        KRI 考夫曼離子源 KDC 40
                        閱讀數: 2311

                        KRI 考夫曼離子源 KDC 40

                        KRI 考夫曼離子源 KDC 40
                        上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵極. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

                        KRI 考夫曼離子源 KDC 40 技術參數

                        型號

                        KDC 40

                        供電

                        DC magnetic confinement

                         - 陰極燈絲

                        1

                         - 陽極電壓

                        0-100V DC

                        電子束

                        OptiBeam™

                         - 柵極

                        專用, 自對準

                         -柵極直徑

                        4 cm

                        中和器

                        燈絲

                        電源控制

                        KSC 1202

                        配置

                        -

                         - 陰極中和器

                        Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

                         - 架構

                        移動或快速法蘭

                         - 高度

                        6.75'

                         - 直徑

                        3.5'

                         - 離子束

                        集中
                        平行
                        散設

                         -加工材料

                        金屬
                        電介質
                        半導體

                         -工藝氣體

                        惰性
                        活性
                        混合

                         -安裝距離

                        6-18”

                         - 自動控制

                        控制4種氣體

                        * 可選: 可調角度的支架


                        KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應用領域
                        濺鍍和蒸發鍍膜 PC
                        輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
                        表面改性, 激活 SM
                        離子濺射沉積和多層結構 IBSD
                        離子蝕刻 IBE

                        其他產品
                        北京赛车官网投注

                                                                    林省快三新版走势图 急速赛app 曾道app 牛牛透视辅助软件 美女图片 水果机怎么押会赢图解 云南时时奖项规则 浙江12选5中奖助手 湖南快乐十分怎么下载 赛车pk10投注网站 大乐透历史开奖号码 手机棋牌游戏合作平台 3d走势图彩吧助手 时时网上赚钱平台 陕西福彩开奖结果查询 2019年管家婆一肖一码